小型半导体实验室污水处理设备

半导体实验室污水处理设备

随着电子产品的应用领域在不断的扩大，半导体涉及的行业也越来越广泛，半导体工业不仅对于纯水的要求高，在产品制作的过程中将会产生大量的工业污水，因生产产品的原材料不同，所以产生的废水的废水性质也不同。

1、半导体废水处理污染物种类多，成分复杂;

2、含有多种重金属、氟、硅以及有机废水等;

3、含有高浓度的极细悬浮颗粒;

4、工业的污水排放量大;

5、废水浓度低，水质变化大;

废水中含金属离子种类较多，需分开收集进行处理;

含氟废水：半导体含氰清洗水的处理一般采用两级碱性氧化法处理工艺，半导体废水处理设备设有机械搅拌系统、PH控制系统、ORP控制系统以及加药(酸、碱、氧化剂)系统，将废水pH值调节在10.5-11之间，ORP值300- -4oo mv，进行一级氧化破氰，反应时间为15 ~ 20min。

当进行二级氧化破氰时，废水的pH值调节在pH在10.5-11之间，ORP值300- -4oo mv,反应时间15 ~ 20min,将CN-氧化就为CN0-。

有机废水一般采用经济高效的生化法，如单独的好氧法或与缺氧法、厌氧法组合工艺，对于废水中COD、氨氮、总氮等常规污染物去除效果非常可观。.

金属离子废水则需针对不同废水不同种类进行选择，常用的有化学沉淀法、吸附法、离子交换法等。

半导体清洗废水处理设备主要采取的处理工艺：

二次反应一级凝固十一级沉淀，系统流出离子浓度基本满足L要求。如果增加第一次沉淀，作为第二反应沉淀第一次反应沉淀的第二阶段沉淀反应，系统流出离子浓度可以控制在10毫克。

浓氨不脱吸收工艺-含溴废水的第二阶段沉淀工艺(含溴废水和CMP研磨废水混合处理)-三级酸碱和处理工艺。

直接投入二级反应组、酸碱原液，运行水不稳定，药剂消耗大。

反冲洗过滤器是利用过滤器直接拦截水中杂质，去除水体悬浮物、颗粒物，降低浊度，净化水质，减少系统污垢、菌藻、腐蚀等，净化水质，恒沃创科系统其他设备正常运行的设备。反冲洗过滤器处理的水质不仅达到国家规定的废水排放标准，反冲洗过滤器处理的水源还可以重复使用，可以回收利用，从而节约水资源。

在半导体制造技术中，通过一系列的光刻、刻蚀、沉积、离子注入、研磨、清洗等工艺形成具有各种功能的半导体芯片，然后将所述半导体芯片进行封装和电性测试，并终形成终端产品。

半导体实验室污水处理设备